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根据2025年10月的最新报道,Intel 的 18A(1.8nm 级)工艺节点在 D0(初始缺陷密度,单位为每平方厘米缺陷数)方面已取得显著进步。 具体来说,Intel 官方在2024年底公布的 D0 值已低于 0.40/cm²,而最近的行业分析和报道显示,这一指标已进一步优化至低于 0.30/cm²,这被视为“有史以来最低水平”,标志着工艺已准备好支持内部和外部客户的量产。 “对于中小型芯

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