#背面供电技术

6天前

#Intel 称其 14A 制程 (1.4 纳米) 成本将高于即将推出的 18A 制程，但功耗降低最多 35%、性能最高提升 20%。英特尔 14A 制程将使用阿斯麦的高数值孔径 EUV 光刻机，同时英特尔也将采用背面供电技术优化芯片的功耗和性能。查看全文：

#Intel #14A制程 #阿斯麦EUV光刻机 #背面供电技术 #功耗降低