中國成功研發出極紫外光(EUV)光刻機原型機,顫抖吧西方 目前全球只有ASML掌握商用EUV技術,每台機器售價約2.5億美元,重達180噸,從原型到商用花了近20年。説是說只有ASML掌握商用EUV技術,但實際上這是全球多國多年合作的成果,ASML主要是系統整合者,負責將各國頂尖部件組裝成完整機器 美國自2018年起施壓荷蘭政府,禁止ASML向中國出口EUV設備,甚至擴大到較舊DUV機台,目的是讓中國晶片技術落後至少一代。面對封鎖,中國自2019年起「全國大煉芯」,由政府主導、華為協調,動員數千名工程師,目標是實現完全國產先進晶片製造 據報導,這台原型機體積龐大,幾乎佔滿整個廠房樓層,遠大於ASML商用機。中國團隊在試圖複製相同尺寸時遇到困難,無法實現同樣的精密壓縮 既然無法做小,那就放大來做,一來可以改善光源功率與輸出,二來可以提供更多空間容納輔助系統、散熱、調整機制。ASML在2000年代初的第一台EUV原型也遠比現在商用機粗大,花了近20年才縮小並優化,中國團隊應該也是是摸著人家摸過的石頭過河 中國招募多名前ASML工程師,提供高額簽約金及住房補貼,他們透過逆向工程仿製ASML技術。中國亦從二手市場及中間商取得舊款ASML、Nikon、Canon的零件,甚至拆解舊設備進行逆向。部分團隊還使用假身份、現場監控手機及隔離作業,以確保過程保密 這是否代表中國已完全掌握EUV技術?當然不是。這雖是重大進展,但距離商用還有很大差距。ASML從原型到商用花了20年。中國原型機仍依賴舊外國零件,短期内無法規模化生產 中國政府目標2028年生產可用晶片,但多數專家及知情人士認為2030年更現實。即使成功,初期的國產EUV成本高、良率低,仍難以與台積電、三星、Intel競爭 即使這些問題已得到改善,相信西方已推進到下一代技術(High-NA EUV),中國届時仍需追趕。唯一無需操心的是,這摸著石頭過河的「石頭」一直都在,因為跟著第一名的脚步準沒錯 唯一的壞處是,別奢望自己會是第一名