DUV光刻机是193nm波长光源，是有物理极限的。制造7nm芯片，目前只能靠“多重曝光”和EDA预测版图缺陷技术，基本上多重曝光已经到极限了。 EUV光刻机是13.5nm波长光源，波长更小，制作5nm芯片，良率更有保障。 不过能用DUV制作7nm芯片已经非常牛逼了。