电脑杂志：半导体制程战火再升温！ Intel 正式秀出关键底牌。全球首套第二代 High-NA EUV 曝光机 TWINSCAN EXE:5200B 已在美国研发线完成安装，这不只是设备到位，更象征 14A（1.4 奈米）世代正式从蓝图走向可量产的起跑线。 相较先前的首代机型，新一代 High-NA EUV 在「量」与「准」上都明显升级：每小时可处理约 175 片晶圆，目标推进到 200 片以