路透社报道，据两名知情人士透露，中国打造的光刻机原型机于2025年初完成，目前正在测试中它由一支来自荷兰半导体巨头ASML的前工程师团队打造，这些工程师通过逆向工程，复制了ASML极紫外EUV光刻机 PS：中国取得突破是一个必然，就像原子弹氢弹，太空技术，航母技术一样。西方体制也难防止技术扩散